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一种改变等离子体参数的方法
Application NumberCN201110207454.2
徐跃民; 孙海龙; 吴逢时; 丁亮; 鉴福升; 孙简; 霍文青; 杨新杰
2012
Application Date2011-07-22
Date Available2012-04-11
Country中国
Abstract本发明涉及一种改变等离子体参数的方法。所述方法通过离子产生装置产生正离子,将正离子通入等离子体中与等离子体中的电子中和,以改变等离子体的参数。所述离子产生装置包括工作气体储存罐(1)、等离子体矩(2)、微波源(3)、线圈(4);所述等离子体矩(2)包括同轴设置的外导体(5)、内导体(6)、短路活塞(7)和喷口(8),所述短路活塞(7)设置于外导体(5)和内导体(6)之间;所述微波源(3)设置于外导体(5)前端的能量馈入点上;所述外导体(5)前部外面缠绕包覆线圈(4),用于通电后产生螺旋磁场。本发明的方法不再局限于密闭的腔体中进行,同时解决了自然界中产生的等离子体参数不能控制的问题。
Language中文
Document Type专利
Identifierhttp://ir.nssc.ac.cn/handle/122/2178
Collection保障部/保障与试验验证中心
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GB/T 7714
徐跃民,孙海龙,吴逢时,等. 一种改变等离子体参数的方法[P]. 2012-01-01.
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