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Effect of Phantom Dark Energy on Holographic Thermalization
Zeng, Xiao-Xiong; Hu, Xin-Yun; Li, Li-Fang
作者部门空间科学部
发表期刊CHINESE PHYSICS LETTERS
2017
卷号34期号:1页码:10401
ISSN0256-307X
语种英语
摘要Holographic thermalization for a black hole surrounded by phantom dark energy is probed. The result shows that the smaller the phantom dark energy parameter is, the easier the is plasma to thermalize as the chemical potential is fixed, the larger the chemical potential is, and the harder the plasma is to thermalize as the dark energy parameter is fixed. The thermalization velocity and thermalization acceleration are presented by fitting the thermalization curves.
收录类别SCI ; CSCD
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文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.nssc.ac.cn/handle/122/5814
专题空间科学部
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GB/T 7714
Zeng, Xiao-Xiong,Hu, Xin-Yun,Li, Li-Fang. Effect of Phantom Dark Energy on Holographic Thermalization[J]. CHINESE PHYSICS LETTERS,2017,34(1):10401.
APA Zeng, Xiao-Xiong,Hu, Xin-Yun,&Li, Li-Fang.(2017).Effect of Phantom Dark Energy on Holographic Thermalization.CHINESE PHYSICS LETTERS,34(1),10401.
MLA Zeng, Xiao-Xiong,et al."Effect of Phantom Dark Energy on Holographic Thermalization".CHINESE PHYSICS LETTERS 34.1(2017):10401.
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